Ionenimplantation
Dienstleistungen im Bereich der Ionenimplantation
Vertrauen Sie auf unsere umfassende Servicepartnerschaft, um Ihre Anforderungen im Bereich der Ionenimplantation zu erfüllen. Wir unterstützen zuverlässig die Produktion jeder Losgröße und jede Anwendung und sind in der Lage, auch Spitzenauslastungen zu bewältigen.
Von der Massenproduktion auf 300-mm-Wafern bis hin zur Forschung und Entwicklung kleinerer Wafergrößen und Chips –Coherent IonenimplantationsanlageCoherent erfüllt alle Anforderungen an die Implantation und ermöglicht die Heißimplantation auf Substraten aus Verbindungshalbleitern.
Schlüsselkompetenzen
- Ein Implantationsverfahren zur Verringerung der durch den Spaltprozess verursachten Waferverformung (JA Turcaud, D Lee, D Rossman, G Lucchesi, B Chan, US-Patentanmeldung 18/982,737)
- Herstellung von Polarisatoren, Beugungsgittern und polarisierenden Oberflächen durch Ionenimplantation (G. Barbarossa, R. Chebi, R. Sundaram, J. Turcaud, C. Greiner, US-Patentanmeldung 18/607,870)
- Systeme und Verfahren zur Erzeugung von Aluminiumionenstrahlen (A. Hassan, R. Pong, J. Turcaud, J. Schuur, US-Patentanmeldung 18/426,555)
Ein großartiges Erlebnis Coherent stützt sich auf ein erfahrenes Team für Ionenimplantationsanwendungen, um schnelle und kosteneffiziente Lösungen anzubieten, die den Kunden in folgenden Bereichen zum Erfolg verhelfen:
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Ein zuverlässiger Partner Die Zusammenarbeit mit Coherent als Ihrem Partner für die Injektionstechnologie bietet Ihnen folgende Vorteile:
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Ausgewählte Videos
Mit Ionenimplantation die Zukunft der Photonik vorantreiben
Von der Gesichtserkennung in Smartphones bis hin zu Hochgeschwindigkeitsdaten in KI-gesteuerten Rechenzentren – in der vernetzten Welt von heute kommen überall präzise Laser zum Einsatz. Diese hochmodernen photonischen Bauelemente bilden die Grundlage für moderne Sensorik und Kommunikation.
Dieses Video beleuchtet insbesondere, wie die Ionenimplantation die Leistung von Lasern verbessert und so einen stark fokussierten Strahl, eine höhere thermische Stabilität sowie fortschrittliche Mehrfach-Junction-Designs ermöglicht. Sie spielt eine entscheidende Rolle bei der Isolierung von Laserkanälen, der Verringerung von Übersprechen sowie der Steigerung von Geschwindigkeit und Zuverlässigkeit.
Außerdem erfahren Sie, worin sich VCSEL und EEL unterscheiden und warum beide für hochmoderne Anwendungen von entscheidender Bedeutung sind.Coherent jahrzehntelanges Fachwissen und ein globales Netzwerk an Wafer-Foundries und bietet durchgängige Ionenimplantationsdienstleistungen – von der Simulation bis zur Waferfertigung in Großserie –, damit Sie schneller und intelligenter innovativ sein können.
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Ionenimplantation in Halbleiterbauelemente
Die Ionenimplantation ist ein Verfahren, bei dem Ionen auf hohe Geschwindigkeiten beschleunigt und anschließend in Halbleiterverbindungen eingebracht werden. Dieser Prozess ermöglicht eine präzise Steuerung der Ladungsträgerkonzentration und -verteilung, wodurch die elektrischen Eigenschaften des Materials mit hoher Genauigkeit angepasst werden können.Coherent weltweit größteCoherent für Ionenimplantation und bietet eine Vielzahl von Dienstleistungen an, um den Anforderungen seiner Kunden gerecht zu werden.
