Excimer-Laser
Hochenergetische UV-Lichtimpulse werden in der Mikroelektronik, bei Displays, in der wissenschaftlichen Forschung, in der Medizin und bei der Dünnschichtverarbeitung eingesetzt.
- Bearbeitung großer Flächen: Die Probenoberfläche wird mit einem gleichmäßigen, großflächigen, flachen Lichtstrahl abgedeckt.
- Skalierbare UV-Leistung: Anpassung der Leistungsstufen von der Vorproduktion bis zur Massenproduktion.
- Höchste Präzision bei der selektiven Ablagerung von Laserenergie in der Tieftemperatur-Dünnschichtverarbeitung.
Ein umfassendes Produktportfolio an Excimer-Lasern
Dank unserer 50-jährigen Erfahrung im Bereich der Excimer-Laser wissen wir, dass Sie mit einem auf Ihre Anwendung abgestimmten Excimer-Laser hervorragende Ergebnisse erzielen können. Aus diesem Grund bieten wir eine äußerst breite Palette an Laserleistungs- und Energieoptionen an, die sich alle durch herausragende Qualität und Leistung auszeichnen.
ExciStar
ExciStar wurde speziell für Präzisionsaufgaben entwickelt, darunter Hornhautabtragung, Markierung von Korrekturlinsen und die Herstellung optischer Sensoren.
- Hohe Wiederholungsfrequenz – bis zu 1 kHz.
- Tischgerät – Platzbedarf: 650 mm x 300 mm.
- 193 nm oder 248 nm – Präzises Markieren und Abtragen.
IndyStar
IndyStar robuster UV-Excimer-Laser mit hohem Tastverhältnis, der speziell für Anwendungen mit kurzen Impulsen – wie das Bohren von Tintenstrahldüsen, Messungen und optische Prüfungen – entwickelt wurde.
- Hohe Impulsfrequenz – bis zu 2 kHz bei Einsatz rund um die Uhr.
- Halbleiteranwendungen – entspricht dem Semi-S2-Standard.
- 193 nm und 248 nm – Entwicklung im Offsetdruck, Masken und optische Tests, Mikrobearbeitung.
COMPex
COMPex erzeugen Impulsenergien im Bereich von mehreren hundert Millijoule und zeichnen sich durch eine hohe Impuls-zu-Impuls-Stabilität sowie eine hervorragende Strahlgleichmäßigkeit aus, wodurch sie sich für anspruchsvolle Anwendungen eignen.
- Hohe Energie – mehrere hundert Millijoule.
- Verschiedene Wellenlängen – 193 nm, 248 nm, 308 nm, 351 nm.
- Unterstützung der Dünnschichtbearbeitung – Waferbearbeitung, Pulslaserabscheidung.
LEAP
LEAP zeichnet sich durch eine hohe Einschaltdauer, Zuverlässigkeit und niedrige Betriebskosten aus und ermöglicht eine hochenergetische und hochpräzise Bearbeitung.
- Breite Auswahl an Leistungsstufen – eine einzige Plattform unterstützt die Serienfertigung, Vorproduktion und Entwicklung von Produkten mit bis zu 600 Watt.
- Impulse nach Bedarf – Passen Sie die Impulsmuster an Ihren Prozess an, um die Betriebskosten so weit wie möglich zu senken.
- Vielseitig einsetzbar – Wählen Sie aus Modellen mit 193 nm, 248 nm und 308 nm für die Pulslaserabscheidung, die Mikrostrukturierung oder die Displaybearbeitung.
LAMBDA SX
LAMBDA SX ein industrieller UV-Excimer-Laser LAMBDA SX Produktionsanlagen, der sich durch stabile Hochenergieimpulse auszeichnet, die Bearbeitung großer Flächen mit UV-Licht ermöglicht und eine hohe Strahlstabilität aufweist.
- Hohe Leistung – bis zu 600 W.
- Hohe Impulsenergie – bis zu 1000 mJ.
- Hohe Impulsfrequenz – Serienfertigung im Dreischichtbetrieb mit einer Frequenz von bis zu 600 Hz.
VYPER
Die VYPER -Excimer-Laserplattformen VYPER mit einer Leistung von einigen Kilowatt bis zu mehreren Kilowatt ermöglichen einen extrem hohen Durchsatz bei der Massenproduktion von Displays.
- Sehr hohe Leistung – bis zu 3600 W.
- Sehr hohe Impulsenergie – bis zu 6 J pro Impuls.
- Unübertroffene Energiestabilität – für die Herstellung von OLED- und MicroLED-Backplanes.
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