Excimer-Laser
Wir nutzen hochenergetische UV-Impulse in den Bereichen Mikroelektronik, Displaytechnik, wissenschaftliche Forschung, Medizin und Dünnschichtverarbeitung.
- Bei der großflächigen Feldbearbeitung wird die Probenoberfläche durch einen gleichmäßig breiten, flachen oberen Strahl abgedeckt.
- Skalierbare UV-Druckleistung: Passen Sie die Druckleistung von der Vorproduktion bis zur Massenproduktion an.
- Bei diesem hochpräzisen Tieftemperatur-Dünnschichtverfahren wird Laserenergie selektiv zur Abscheidung genutzt.
Umfangreiches Eximer-Laser-Portfolio
Dank unserer 50-jährigen Erfahrung im Bereich der Excimer-Laser wissen wir, dass sich mit dem für die jeweilige Anwendung geeigneten Excimer-Laser die besten Ergebnisse erzielen lassen. Aus diesem Grund bieten wir die breiteste Palette an Laserleistungs- und Energieoptionen mit herausragender Qualität und Leistung an.
ExciStar
Der ExciStar -UV-Excimer-Laser wurde für präzise Anwendungen wie Hornhautabtragungen, die Markierung von Korrekturlinsen und die Herstellung optischer Sensoren entwickelt.
- Hohe Wiederholungsrate – bis zu 1 kHz
- Tischplatte – Platzbedarf 650 x 300 mm.
- 193 nm oder 248 nm – Präzisionsmarkierung und Ablation.
IndyStar
IndyStar ist ein robuster, leistungsstarker, zyklischer UV-Excimer-Laser, der speziell für Hochgeschwindigkeits-Pulsanwendungen wie das Bohren von Tintenstrahldüsen, Messungen und optische Tests entwickelt wurde.
- Hohe Impulsfrequenz – bis zu 2 kHz auch im Dauerbetrieb.
- Anwendung in der Halbleiterindustrie – Semi-S2-konform.
- 193 nm und 248 nm – Lithografieentwicklung, Masken- und Optikprüfung, Mikroverarbeitung.
COMPex
COMPex Laser liefert eine Pulsenergie von mehreren hundert Millijoule und zeichnet sich durch hohe Puls-zu-Puls-Stabilität sowie hervorragende Strahlgleichmäßigkeit aus, wodurch er sich besonders für anspruchsvolle Anwendungen eignet.
- Hohe Energie – mehrere hundert Millijoule.
- Verschiedene Wellenlängen – 193 nm, 248 nm, 308 nm, 351 nm.
- Unterstützung bei der Dünnschichtbearbeitung – Waferbearbeitung, Pulslaserabscheidung.
LEAP
Der LEAP -Excimer-Laser bietet durch die Kombination aus hoher Ausgangsleistung bei hohem Einschaltverhältnis, Zuverlässigkeit und niedrigen Betriebskosten eine hochenergetische und hochpräzise Bearbeitung.
- Umfangreiche Auswahl an Leistungsstufen – dieselbe Plattform unterstützt die Serienfertigung, Vorproduktion und Entwicklung von Produkten mit einer Leistung von bis zu 600 Watt.
- Pulse-on-Demand – Durch die Anpassung der Impulsmuster an den Prozessablauf werden die Betriebskosten minimiert.
- Vielseitig einsetzbar – Wählen Sie zwischen Modellen mit 193 nm, 248 nm und 308 nm für die Pulslaserabscheidung, die Feinbearbeitung oder die Displaybearbeitung.
LAMBDA SX
Der LAMBDA SX ist ein industrieller UV-Excimer-Laser für den Einsatz in der Produktion, der sich durch Strahlstabilität sowie zuverlässige Hochenergieimpulse auszeichnet, die eine großflächige UV-Bearbeitung ermöglichen.
- Hohe Leistung – bis zu 600 W
- Impulsenergie – bis zu 1000 mJ.
- Hohe Taktfrequenz – Massenproduktion im Dreischichtbetrieb mit bis zu 600 Hz.
VYPER
Die VYPER -Excimer-Laserplattform mit einer Leistung von bis zu mehreren kW bietet höchsten Durchsatz und ermöglicht so die Massenproduktion von Displays.
- Extrem hohe Leistung – bis zu 3600 W.
- Sehr hohe Pulsenergie – bis zu 6 J pro Puls.
- Hervorragende Energieeffizienz – unterstützt die Verarbeitung von OLED- und MicroLED-Backplanes.
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